新建一個(gè)圖層，把整個(gè)畫(huà)布涂成白色(#ffffff)。然后去濾鏡>像素化>一點(diǎn)紅(單元格大小:7)。接下來(lái)去圖像>調(diào)整>色調(diào)/飽和度(Ctrl+U)和去飽和層(-100)。然后應(yīng)用一個(gè)簡(jiǎn)單的高斯模糊(半徑:2,5)。在圖層中添加圖層蒙版，選擇“Sun basic”像素，按Ctrl+Shift+I(反選擇)，然后把選擇涂成黑色(隱藏不需要的部分)。將混合模式改為Color Burn，填充模式改為60%。將圖層重命名為“Effect 2”步驟5創(chuàng)建一個(gè)新圖層，將它涂成白色并擴(kuò)展它的邊緣。然后過(guò)濾>渲染>云，點(diǎn)擊確定(確保你的前景色設(shè)置為#ffffff，背景色設(shè)置為#000000)。將混合模式更改為疊加模式。將圖層重命名為“effect 3”。將這些圖層分組，并將組命名為“Sun group”。
接下來(lái)，創(chuàng)建一個(gè)新的圖層，使用鋼筆工具(P)創(chuàng)建這個(gè)自定義筆刷(在每個(gè)路徑上應(yīng)用描邊;右鍵單擊>中風(fēng)路徑)。*注意:筆觸使用圓角硬筆刷。在筆刷面板(F5;窗口>刷)。增加一點(diǎn)間距，選中形狀動(dòng)態(tài)框，將大小抖動(dòng)和角度抖動(dòng)旋轉(zhuǎn)到100%。然后簡(jiǎn)單地畫(huà)一些“線”使用不同的橙色調(diào)。這個(gè)圖層的大小應(yīng)該再一次大于你的畫(huà)布。接下來(lái)，添加一些高斯模糊(不超過(guò)3px)。添加這些風(fēng)格。點(diǎn)擊“添加圖層蒙版”按鈕位于層堆棧的底部。你需要“揭露”只有一個(gè)小的區(qū)域在圓圈的邊緣(一旦你完成了，選擇蒙版;點(diǎn)擊圖層堆棧中的縮略圖-去濾鏡>模糊>高斯模糊，設(shè)置半徑在3px左右)。將圖層重命名為“爆炸1”。復(fù)制上一層，添加一些高斯模糊(1-1,5px)，用這個(gè)替換樣式。把它放在“原件”之前圖層堆棧中的圖層。和掩模中的一些隨機(jī)部分。將圖層重命名為“爆炸2”。重復(fù)前面的步驟?，F(xiàn)在應(yīng)該有三個(gè)“爆炸”層。將它們分組，并將分組命名為“爆炸”。新建一個(gè)圖層，把畫(huà)布涂成白色。將混合模式改為疊加，填充設(shè)置為30%左右。
創(chuàng)建一個(gè)新圖層，把它涂成白色，擴(kuò)展它的邊緣，然后過(guò)濾>像素化的>點(diǎn)顏色(使用相同的單元格大小;7)。然后過(guò)濾>扭曲>波，設(shè)置這些參數(shù)。添加一些高斯模糊。給圖層添加一個(gè)蒙版，選擇“Sun basic’s”像素。將選區(qū)外的區(qū)域涂成黑色以隱藏它，并將混合模式改為柔和的光線。將圖層重命名為“隨機(jī)效果”。創(chuàng)建一個(gè)新圖層，選擇“Sun basic’s”像素再一次。選擇漸變工具(G)，選擇一個(gè)簡(jiǎn)單的從黑色到透明的徑向漸變，然后從選擇的中心到邊緣畫(huà)一條直線。然后改變混合模式為柔和的光和填充到40-45%。
12 .回到“爆炸”分組并復(fù)制任何圖層。將圖層放在圖層堆棧的頂部，按Ctrl+U打開(kāi)色相/飽和度面板。把亮度調(diào)到+100，讓它變成白色。然后添加一些高斯模糊，再一次“顯示”一些其他隨機(jī)的部分內(nèi)部和邊緣的主要形狀(太陽(yáng))。將圖層重命名為“隨機(jī)爆炸”。
13 .回到“陽(yáng)光小組”然后選擇第一個(gè)圖層(sun basic, effect 1)，復(fù)制并合并它們。然后將它們放在圖層堆棧的頂部。去濾鏡>模糊>高斯模糊，并選擇一些大約3-4 px。按住Alt+左鍵，將上一層(步驟12)的蒙版拖到這一層上。這是一個(gè)簡(jiǎn)單的“復(fù)制”技巧面具。同樣，在基本太陽(yáng)形狀的內(nèi)部和邊緣隨機(jī)繪制一些部分。將這個(gè)圖層重命名為“大太陽(yáng)”。如果你在畫(huà)布邊緣發(fā)現(xiàn)任何令人不安的發(fā)光部分(參見(jiàn)前面的步驟)
